Россия создаст ПО для проектирования чипов по техпроцессу 90 нм

Минпромторг выделил 943 млн рублей на разработку отечественной САПР

Минпромторг России объявил конкурс на разработку программного комплекса, который станет базовым звеном отечественной системы автоматизированного проектирования (САПР) для подготовки и изготовления фотошаблонов. Речь идет о ПО для работы с топологиями 90 нм и выше — то есть о сегменте, который нужен для проектирования и производства микросхем по относительно зрелым техпроцессам.

На разработку министерство выделило 943 млн рублей. Тендер опубликован 28 апреля 2026 года, а завершить работы планируется до 1 ноября 2028 года. Создаваемое решение должно включать несколько ключевых модулей: загрузку данных, визуальный контроль топологии, формирование эскизов, сборку фотошаблонов и другие инструменты, необходимые для подготовки производственной документации. Интересно, что ПО должно быть совместимо с целой линейкой белорусских лазерных генераторов фотошаблонов.

Проект стал логичным продолжением курса на импортозамещение в сфере проектирования микросхем. До 2022 года российские заказчики активно использовали решения Cadence и Synopsys, но после введения санкций их поставки в Россию были прекращены. На этом фоне Минпромторг ещё в 2024 году утвердил «дорожную карту» развития отечественных САПР до 2030 года, а общие затраты на НИОКР в этой области оценивались в 54,6 млрд рублей.

По плану, к 2030 году в России должны появиться около 100 различных платформ САПР, а совокупный рынок этого ПО должен заметно вырасти. Кроме того, в дорожной карте обозначено, что к 2030 году может начаться разработка САПР уже для более тонкого техпроцесса — 28 нм.